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Dreifach-Junction-GaAs-Solarzellen: Ein detaillierter Blick auf die gängige Photovoltaik-Struktur für den Weltraum
  • 2026-06-24
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Dreifach-Junction-GaAs-Solarzellen: Ein detaillierter Blick auf die gängige Photovoltaik-Struktur für den Weltraum

Einführung

Da die kommerzielle Raumfahrt weiter wächst, benötigen Raumfahrzeuge immer mehr elektrische Energie. Weltraum-Photovoltaik dient als Hauptstromquelle für die meisten Raumfahrzeuge, daher beeinflusst die Wahl der Solarzellentechnologie direkt den Erfolg einer Mission, ihre Kosteneffizienz und ihre Wettbewerbsfähigkeit auf dem Markt.

Derzeit gibt es drei Haupttechnologierichtungen: Galliumarsenid (GaAs), p-Typ-Heterojunction (HJT) und p-Typ-HJT/Perowskit-Tandemzellen. Betrachtet man die technologische Entwicklung und das langfristige Potenzial und analysiert die Kernvor- und Nachteile jeder Route, liegt GaAs immer noch vorn. Trotz der Kostenherausforderungen machen die unübertroffene Gesamtleistung, die bewährte Zuverlässigkeit in extremen Umgebungen und das klare, erhebliche Potenzial zur Kostenreduzierung GaAs zur besten Wahl für hochwertige, zuverlässige kommerzielle Weltraummissionen sowohl heute als auch in den nächsten 3-5 Jahren.

Die Vorteile von Dreifach-Junction-GaAs-Zellen
Hohe Effizienz

Der GaAs-Bandabstand (1,42 eV) liegt im theoretisch optimalen Bereich. Darüber hinaus stapeln Multi-Junction-Zellen GaInP-, GaAs- und Ge-Schichten, die jeweils hochenergetische, mittelenergetische und niederenergetische Photonen absorbieren, was das nutzbare Spektrum erheblich erweitert. Die neuesten Dreifach-Junction-GaAs-Zellen für die Weltraum-Photovoltaik erreichen jetzt Wirkungsgrade von über 30%.

Hohe Zuverlässigkeit

Starke Strahlungsresistenz und hervorragende Hochtemperaturstabilität machen diese Zellen perfekt für die Kernanforderungen hochwertiger, langlebiger Missionen. Der Leistungsvorteil reicht aus, um die höheren Kosten auszugleichen.

Ausgereifte Technologie mit langer Erfolgsbilanz im Orbit

Bereits 1965 nutzte der Satellit Venera 3 der ehemaligen Sowjetunion als erster GaAs-Zellen. 1995 verwendete der erste kommerzielle Kommunikationssatellit MEASAT Einfachübergangs-GaAs als Hauptstromversorgung, und das Solarzellen-Design erstellte eine vollständige Datenbank, die belegte, dass GaAs-Zellen den gesamten Lebenszyklus-Strombedarf eines Raumfahrzeugs decken können. Von da an ersetzten GaAs-Zellen nach und nach ältere Zellen als grundlegende Stromerzeugungseinheit auf Raumfahrzeugen und entwickelten sich Schritt für Schritt von Einfachübergangs- zu Mehrfachübergangs-Designs.

Warum ist es als Dreifachübergangs-Struktur ausgelegt?

Jedes Halbleitermaterial kann nur Photonen mit einer Energie größer als seiner Bandlücke effizient absorbieren. Photonen mit zu geringer Energie können nicht genutzt werden, während Photonen mit zu hoher Energie die überschüssige Energie als Wärme verlieren (Thermalisierungsverlust). Die Bandlücke einer Einfachübergangszelle kann das Sonnenspektrum nicht perfekt abdecken. Nehmen wir als Beispiel eine Einfachübergang-Siliziumzelle: Sie kann Photonen im Bereich von 0,3-1,1 μm (300 nm-1100 nm) absorbieren, arbeitet hauptsächlich im Band von 0,38 μm-0,7 μm. Daher haben Einfachübergang-Siliziumzellen eine begrenzte Effizienzobergrenze mit einem theoretischen Limit von etwa 29,7%.

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Eine Dreifachübergangszelle teilt die Arbeit auf drei Subzellen auf und zerlegt das Sonnenspektrum in drei Segmente, sodass jede Subzelle in ihrem optimalen Band arbeitet. Dies reduziert sowohl Thermalisierungsverluste als auch spektrale Fehlanpassungsverluste drastisch. Theoretisch können Mehrfachübergangszellen einen Wirkungsgrad von nahezu 50% erreichen, weit höher als eine Einfachübergangsstruktur.

Die Struktur einer Dreifachübergangs-GaAs-Zelle

Die Dreifachübergangs-GaAs-Zelle ist in drei Teile unterteilt: die obere Zelle, die mittlere Zelle und die untere Zelle. Jeder Teil verwendet unterschiedliche Hauptmaterialien (Basisregion) und erfüllt eine andere Rolle.

Obere Zelle

Normalerweise AlGaInP / GaInP, mit einer Bandlücke von etwa 1,8-1,9 eV. Sie absorbiert hauptsächlich kurzwellige Photonen (Ultraviolett, blaues Licht). Die obere Zelle nimmt hochenergetische Photonen auf und reduziert Thermalisierungsverluste.

Mittlere Zelle

Normalerweise InGaAs oder GaAs, mit einer Bandlücke von etwa 1,42 eV. Sie absorbiert hauptsächlich mittel- und langwellige Photonen (grünes, gelbes, rotes Licht). Die mittlere Zelle verarbeitet die mittleren bis langen Wellenlängen und trägt den größten Teil des Photostroms bei.

Untere Zelle

Normalerweise Ge, mit einer Bandlücke von etwa 0,67 eV. Sie absorbiert hauptsächlich langwellige Photonen (nahes Infrarot). Die untere Zelle fängt das stark durchdringende Infrarotlicht ein.

Dreifach-Junction-GaAs-Solarzellen: Ein detaillierter Blick auf die gängige Photovoltaik-Struktur für den Weltraum

Lassen Sie uns nun durchgehen, was jede Schicht tut.

① Kontaktschicht

Sitting right above the outermost Cap layer, this is the semiconductor layer that the metal electrode directly touches. It is usually heavily doped n⁺⁺-GaAs or n⁺⁺-GaInP. Its main job is to lower the contact resistance—heavy doping helps it form a good ohmic contact with the metal electrode and cuts down on electrical losses. It also protects the active region, isolating the metal electrode from the delicate active region below (window layer, emitter, etc.) to prevent process damage.

Dreifach-Junction-GaAs-Solarzellen: Ein detaillierter Blick auf die gängige Photovoltaik-Struktur für den Weltraum

② Cap Layer

Located above the window layer and below the anti-reflection coating, sitting between the anti-reflection film and the contact layer. It is commonly GaAs, though some designs use transparent conductive oxides (TCO) such as ITO. Its main role is to assist current collection as an "auxiliary electrode," working with the contact layer to gather and lead out current laterally—especially useful for fine-line grid designs. Its thickness and refractive index can also be tuned to take part in optical design and provide an auxiliary anti-reflection effect.

③ Window Layer

Located above the emitter, usually made of AlInP, AlGaInP, or AlGaAs. Its main role is to reduce surface recombination: the material's wide-bandgap nature means it absorbs little light, and it forms a high-low junction that pushes photo-generated carriers (electrons) toward the interior of the emitter, cutting recombination losses at surface defects. It also acts as an "umbrella," protecting the junction region from damage during later processes such as electrode evaporation.

④ Emitter

Located below the window layer and above the base, forming a PN junction with the base. It is usually N-type GaInP or GaAs. Its main role is to act as the "positive electrode," collecting photo-generated electrons and conducting them to the external circuit. It also balances light absorption against collection—through careful tuning of thickness and doping concentration, it is thick enough to absorb short-wavelength light but not so thick that carriers recombine during diffusion.

⑤ Base

Located below the emitter and above the BSF layer, this is the main body of the PN junction. It is usually p-type GaInP or AlGaInP. As the main light-absorbing region, it is the "workhorse" of the top cell, absorbing most of the short-wavelength light (blue and ultraviolet), generating photo-generated electron-hole pairs, and efficiently transporting the photo-generated holes to the back BSF layer or electrode.

⑥ BSF Layer (Back Surface Field)

Unterhalb der Basis und oberhalb des Tunnelübergangs gelegen, bildet es auf der Rückseite einen Hoch-Niedrig-Übergang mit der Basis. Das Material ist üblicherweise ein breitbandiges p-AlGaInP, AlGaAs oder ähnliches. Seine Hauptaufgabe besteht darin, die Rekombination von Minoritätsträgern zu unterdrücken: Die BSF-Schicht erzeugt eine "Barriere" auf der Rückseite der Basis, die verhindert, dass photogenerierte Löcher bei der Diffusion zur Rückelektrode rekombinieren, wodurch Spannung und Wirkungsgrad gesteigert werden.

⑦ Reflektor

Befindet sich zwischen der oberen und der mittleren Zelle oder zwischen der mittleren und der unteren Zelle. Es handelt sich um einen verteilten Bragg-Reflektor (DBR), der aus abwechselnden Materialien mit hohem und niedrigem Brechungsindex wie AlAs/AlGaAs oder AlInP/AlGaInP gewachsen wird. Seine Hauptaufgabe besteht darin, das mittel- bis langwellige Licht, das von den oberen und mittleren Zellen nicht absorbiert wurde und zu entweichen droht, zurückzureflektieren, sodass ein zweiter Absorptionsdurchgang möglich wird, der den Gesamtstrom und den Wirkungsgrad erhöht.

⑧ Tunnelübergang

Befindet sich zwischen den Subzellen und besteht aus hochdotierten dünnen Schichten (z. B. n++GaAs / p++GaAs). Wie ein "Quantentunnel" ermöglicht er den photogenerierten Ladungsträgern einen effizienten Durchgang, während die Subzellen elektrisch unabhängig bleiben.

Die Struktur der mittleren Zelle ähnelt der der oberen Zelle, nur mit anderen Materialien, daher wiederholen wir sie hier nicht. Im Folgenden gehen wir kurz auf die Besonderheiten der unteren Zelle ein.

⑨ Pufferschicht

Befindet sich zwischen der unteren und der mittleren Zelle und löst das Problem der Gitterfehlanpassung. Wenn das Material der unteren Zelle (z. B. InGaAs) nicht mit der Gitterkonstante des oberen Materials (z. B. GaAs) übereinstimmt, verwendet die Pufferschicht eine "abgestufte" oder "metamorphe Gitter"-Struktur, um Spannungen allmählich abzubauen und Durchstoßversetzungen "abzufangen", sodass sie nicht in den aktiven Bereich der unteren Zelle gelangen, wodurch die Zellenleistung verbessert wird.

⑩ Basis der unteren Zelle

Befindet sich auf der "dicken" Seite des PN-Übergangs der unteren Zelle. Es handelt sich in der Regel um ein p-dotiertes Ge-Substrat. Seine Hauptfunktion besteht darin, langwelliges Infrarotlicht zu absorbieren und als Arbeitspferd für die Erzeugung photogenerierter Ladungsträger in der unteren Zelle zu dienen.

Einige Anmerkungen

In den P/N-Typ-Bezeichnungen geben N++/P++ und ähnliche Markierungen leichte bzw. starke Dotierung an. Die in diesem Artikel dargestellte Struktur der Dreifach-GaAs-Solarzelle verzichtet der Einfachheit halber auf die Darstellung der Elektrodenstruktur, der Antireflexionsschicht und ähnlicher Details.

Referenzen:

  • Dreifachsolarzelle mit Reflektor und Herstellungsverfahren - 2022-0804

  • InGaP/InGaAs/Ge-Dreifachsolarzelle mit einer Mikro-Nano-Antireflexionsstruktur und deren Herstellungsverfahren - 2018-0425

  • Ein Verfahren für eine Dreifachsolarzelle und die Dreifachsolarzelle - 2020-11-13

Ooitechs Ansicht

Ooitech ist überzeugt: Dreifach-GaAs-Zellen, die das Sonnenspektrum auf drei Subzellen aufteilen, bieten die hohe Effizienz und bewährte Zuverlässigkeit, die sie zur führenden Wahl für heutige hochwertige Weltraumenergiemissionen machen.


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